
鉬粉 (64)
二矽化鉬用作增強材料
- 週一, 16 十二月 2013 08:44
- 作者 钼产品编辑2
二矽化鉬可作為增強材料,在1000℃左右會發生脆性-韌性轉變,這就使其在高溫下可以產生韌化效應。據報導,用粉末冶金法製備的α-Sialon-MoSi2複合材料的斷裂韌性從未加MoSi2的3.2MPa・m1/2提高到了5.2MPa・m1/2可見,MoSi2的加入對RS2SiC的高溫強度有特別良好的貢獻。此外,二矽化鉬還有可能作為高溫結構陶瓷的連接材料,但這方面的研究報導尚不多見。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
在1200~1600℃的溫度範圍,MoSi2基複合材料具有與矽基陶瓷一樣良好的高溫強度和抗氧化性,而且具有脆性陶瓷所沒有的使用安全可靠性。因此它是一種具有優異綜合性能的新型高溫結構材料。同時,它還可以作為耐熱合金和C-C複合材料的高溫抗氧化塗層材料,也可以作為其他結構陶瓷的增強劑和連接材料。
目前,MoSi2作為結構材料主要是以複合同時輔之以合金化進行低溫增韌和高溫補強制成MoSi2基複合材料;作為塗層材料主要是添加第3組元以得到抗氧化性能更好的複合氧化膜或與其他材料製成梯度型複合塗層;作為增強材料和連接材料是MoSi2研究和應用的新方向。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
二矽化鉬,用作高溫結構材料
- 週一, 16 十二月 2013 08:44
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二矽化鉬具有高的熔點,適中的密度和優異的高溫抗氧化性能,並且能在900~1000℃之間存在塑-脆轉變溫度,正是這轉變賦予了MoSi2作為高溫結構材料,廣泛用於航空、汽車燃氣渦輪機的高溫部件、氣體燃燒器、噴管、高溫篩檢程式以及火花塞而成為金屬間化合物結構材料。但是,在這方面應用的最大障礙是其室溫脆性大和高溫強度低。因此,MoSi2低溫增韌和高溫補強是其作為結構材料實用化的關鍵技術。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
這方面的研究表明,合金化和複合化是改善MoSi2室溫韌性和高溫強度的有效手段。一般用於MoSi2合金化的組分僅是那些和MoSi2具有相同或類似晶體結構的WSi2、NbSi2、CoSi2、Mo5Si3和Ti5Si3等少數幾種矽化物,其中最理想的是WSi2。但用WSi2合金化會使MoSi2比重方面的優勢明顯喪失,應用受到一定的限制。實踐證明,MoSi2幾乎與所有的陶瓷增強劑(如SiC、TiC、ZrO2、Al2O3、TiB2等)都有良好的化學穩定性和相容性。因此,複合化即製備MoSi2基複合材料是改善MoSi2力學性能最有效的途徑。MoSi2基複合材料可分為連續纖維增強型和非連續纖維(晶須)或顆粒增強型兩類,其中連續纖維增強型複合材料有比較好的力學性能,但由於各向異性以及纖維與基體間的某些反應限制了它的應用;而短纖維(晶須)、顆粒增強型複合材料因其製造工藝簡單、具有各向同性等優點而被廣泛採用,其中SiC顆粒或晶須和ZrO2顆粒增韌補強MoSi2基複合材料被認為最有發展前途。
因SiC增強體與MoSi2基體之間的熱力學穩定性好,MoSi2-SiC系複合材料不僅強韌性得到了較大的改善,而且還表現出比純MoSi2更好的高溫抗氧化性。特別是MoSi2採用SiC晶須增韌補強,其高溫蠕變抗力明顯地優於SiC顆粒增強,若配合WSi2合金化,MoSi2基複合材料與其他金屬間化合物蠕變抗力的比較則強化效果更好。
據研究表明,MoSi2基複合材料與Si3N4基複合材料相比,具有同樣水準的蠕變抗力和更好的疲勞抗力,高溫塑性遠優於矽基陶瓷材料。不論其抗氧化使用溫度還是蠕變抗力,均已達到矽基陶瓷材料的水準,而其技術經濟性與安全可靠性遠優於矽基陶瓷。
SiC顆粒增強的MoSi2基複合材料與鋁的金屬間化合物(Ti3Al和TiAl)以及鎳基單晶超合金(RENEN4)相比,儘管疲勞門檻值較低,但使用溫度明顯高於金屬間化合物,在比重和使用溫度方面較之Ni基單晶超合金也有明顯的優勢。ZrO2增韌MoSi2(ZTM)基複合材料是近幾年新出現的研究方向。ZrO2與MoSi2之間良好的化學物理相容性以及Σ2ZrO2所固有的相變韌化特性使得該系複合材料被認為是利用單一強化相同時實現低溫相變韌化和高溫彌散強化的典型。
Petrovic等人對該系複合材料的研究結果表明,不穩定ZrO2具有最好的增韌效果,可使複合材料的斷裂韌性KIC達到7.8MPa・m1/2,比純MoSi2增加2.5倍。然而,ZrO2對MoSi2抗氧化性的影響以及其相變增韌效果的穩定性直接影響到該系材料的性能和應用。作者對超細ZrO2顆粒增強MoSi2複合材料的初步研究表明,超細ZrO2顆粒(特別是與SiC顆粒同時加入時)對MoSi2的增韌效果顯著,其壓痕KIC值達到8.37MPa・m1/2,高溫(1350℃)抗彎強度達到140MPa。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
二矽化鉬用作塗層材料
- 週一, 16 十二月 2013 08:44
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二矽化鉬可用作塗層材料。塗層(coating)是塗料一次施塗所得到的固態連續膜,是為了防護,絕緣,裝飾等目的,塗布於金屬,織物,塑膠等基體上的塑膠薄層。塗料可以為氣態、液態、固態,通常根據需要噴塗的基質決定塗料的種類和狀態。二矽化鉬可以用作塗層材料,二矽化鉬塗層可分為兩種,其一是用於難熔金屬及其合金和石墨以及C-C複合材料的高溫抗氧化塗層;其二是用於大型積體電路的柵極薄膜塗層,一般壽命不高。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
二矽化鉬塗層發展史:
1967年蘇聯化學物理研究所А.Г.馬爾茲漢等發明了自蔓延(SHS)冶金技術。1976年蘇聯聯合30多家不同組織機構參與了SHS工藝方法的研究和開發,研製合成出200多種材料,其中至少2種以上投入生產,如二矽化鉬和碳化鈦,後者用作工業金剛石的代用品;前者作為加熱元件。目前世界上瑞典“康達爾”公司生產的加熱元件品質更好,但價格較昂貴。
最近幾年來,美國、日本和波蘭等國對SHS方法亦產生了濃厚的興趣。國內天津化工所研究二矽化鉬最早。相繼在洛陽、上海生產矽化鉬加熱元件,但產品品質與國外有一定距離。由於二矽化鉬製品最大缺點——脆性,同時國內生產的鉬製品不緻密、表面不光滑和缺陷較多。
近年來,大量文獻報導了等離子噴塗或反應性等離子噴塗MoSi2基複合材料及其塗層。一致認為,低壓噴塗所得塗層最緻密、含氧量低、化學成分均勻。一般積體電路在製造過程中要進行1000℃以上的高溫處理,在比電阻比多晶矽小的矽化物中,MoSi2和WSi2等難熔矽化物就能經受如此高的溫度。因此,MoSi2也是製作積體電路柵極的理想材料之一。Brestchneider等人引用離子濺射法製備出的MoSi2薄膜塗層,可以滿足大型積體電路的各種要求。在高溫(>1200℃)下,MoSi2表面被氧化形成緻密的SiO2薄膜。由於SiO2粘性較小,容易流進裂紋中去,從而起到修補裂紋或裂紋自癒合的作用。但傳統的包埋法MoSi2。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
二矽化鉬是Mo-Si二元合金系中含矽量最高的一種中間相,是成分固定的道爾頓型金屬間化合物。具有金屬與陶瓷的雙重特性,是一種性能優異的高溫材料。極好的高溫抗氧化性,抗氧化溫度高達1600℃以上,與SiC相當;有適中的密度(6.24g/cm3);較低的熱膨脹係數(8.1×10-6K-1);良好的電熱傳導性;較高的脆韌轉變溫度(1000℃)以下有陶瓷般的硬脆性。在1000℃以上呈金屬般的軟塑性。MoSi主要應用作發熱元件、積體電路、高溫抗氧化塗層及高溫結構材料。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
由於二矽化鉬具有以上性質,因此其常被用作加熱元件,名為:二矽化加熱元件。二矽化鉬加熱元件是一個主要包括二矽化的電子元件,用於工業和實驗室用爐。這種獨特的材料製成的元件能夠承受在其表面的高功率密度的物質(比如,20 W/cm2 的元件表面可承受1700°C的元件溫度,14 W/cm2 的元件表面可承受1800°C,5 W/cm2 的元件表面可承受1900°C),這樣的元件可迅速的迴圈。當元件在空氣中的最大溫度高達1700°C、1800°C、1900°C時,它可能成為3級。
二矽化鉬基鎢條製成的加熱元件在高溫下能抗氧化。當它們被暴露在空氣中,承受高溫的時候,這些元件的表面被所形成的一層薄薄的矽玻璃所保護。雖然這種基質的陶瓷是以矽“皮膚”的形式被消耗的,但是其分解率極低。在高溫下,它們能夠有很高的功率,並同時產生很高的能量。
隨著金屬陶瓷的分解,加熱柄的直徑減小,電阻元件會不斷的增加。二矽化加熱元件並不能顯示碳化矽、金屬鐵鉻鋁合金元素的老化。二矽化加熱元件可以在高溫下運作,在氧化氣氛中讓壽命最長。它們可以在其他的氣氛中操作,但是要在較低的溫度下。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
提高二矽化鉬塗層使用壽命
- 週一, 16 十二月 2013 08:44
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提高二矽化鉬塗層使用壽命的主要方法有:(1)化學和物理氣相沉積法;(2)在MoSi2中添加第3種組元達到以下目的:(a)使保護膜成為複合氧化膜以提高保護膜的抗氧化性能;(b)使其熱膨脹係數儘量接近基體材料的熱脹係數,以防止冷卻時保護膜開裂;(c)改善MoSi2的低溫形變能力;(d)制得與SiO2形成共晶的氧化膜,降低保護膜的熔點,以便在更低溫度(<1200℃)下發揮裂紋自修補的功能。但上述方法均未獲得實質性的進展,目前只限於短時間內使用。如已用於渦輪進口溫度超過1400℃的特殊發動機渦輪葉片的Mo合金塗層;用於導彈尾噴管的Mo或Nb合金的塗層;用於人造衛星等火箭推進器Nb2W2Ta合金的塗層等。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
二矽化鉬塗層發展史:
1967年蘇聯化學物理研究所А.Г.馬爾茲漢等發明了自蔓延(SHS)冶金技術。1976年蘇聯聯合30多家不同組織機構參與了SHS工藝方法的研究和開發,研製合成出200多種材料,其中至少2種以上投入生產,如二矽化鉬和碳化鈦,後者用作工業金剛石的代用品;前者作為加熱元件。目前世界上瑞典“康達爾”公司生產的加熱元件品質更好,但價格較昂貴。
最近幾年來,美國、日本和波蘭等國對SHS方法亦產生了濃厚的興趣。國內天津化工所研究二矽化鉬最早。相繼在洛陽、上海生產矽化鉬加熱元件,但產品品質與國外有一定距離。由於二矽化鉬製品最大缺點——脆性,同時國內生產的鉬製品不緻密、表面不光滑和缺陷較多。
近年來,大量文獻報導了等離子噴塗或反應性等離子噴塗MoSi2基複合材料及其塗層。一致認為,低壓噴塗所得塗層最緻密、含氧量低、化學成分均勻。一般積體電路在製造過程中要進行1000℃以上的高溫處理,在比電阻比多晶矽小的矽化物中,MoSi2和WSi2等難熔矽化物就能經受如此高的溫度。因此,MoSi2也是製作積體電路柵極的理想材料之一。Brestchneider等人引用離子濺射法製備出的MoSi2薄膜塗層,可以滿足大型積體電路的各種要求。在高溫(>1200℃)下,MoSi2表面被氧化形成緻密的SiO2薄膜。由於SiO2粘性較小,容易流進裂紋中去,從而起到修補裂紋或裂紋自癒合的作用。但傳統的包埋法MoSi2。更多資訊,請訪問:二矽化鉬。
二硫化鉬使用注意事項
- 週一, 16 十二月 2013 08:44
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二硫化鉬在使用的時候有哪些注意事項呢?二硫化鉬除特殊情況下,一般應稀釋後用,切勿直接使用;由於二硫化鉬的比重為礦油的5倍左右,目前還沒有足夠的方法,克服沉澱,雖然加了添加劑,但只能維持一定時間,故在使用二硫化鉬前必須充分的攪拌均勻;由於二硫化鉬沉澱問題尚未解決,故二硫化鉬不適合在就經過濾的設備和侵潤滑的設備及油眼很細的管路裏使用,以免堵塞油眼影響潤滑油暢通而造成設備事故。更多資訊,請訪問:二硫化鉬。
二硫化鉬主要用途:
1.廣泛用於汽車工業和機械工業.可作為良好的固體潤滑材料;
2.在高溫,低溫,高負荷,高轉速,有化學腐蝕以及現代超真空條件下,對設備有優異的潤滑性;
3.添加在潤滑油,潤滑脂,聚四氟乙烯,尼龍,石蠟,硬脂酸中可起提高潤滑和降低摩擦的功效;
4.延長潤滑週期,降低費用,改善工作條件,還可作有色金屬的脫膜劑和鍛模潤滑劑;
5.改善磨合運轉狀態,防止表面損傷,防止冷焊,例如:不銹鋼焊接;
6.在使用螺紋連接時,確保其最佳連接狀態;
7.電子,噴塗,電鍍,五金,螺絲等行業都可以直接用到此類產品。更多資訊,請訪問:什麼是二硫化鉬。
二硫化鉬有什麼性質呢?
- 週一, 16 十二月 2013 08:44
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二硫化鉬性質有哪些呢?二硫化鉬是輝鉬礦的主要成分。黑色固體粉末,有金屬光澤。化學式MoS2,熔點1185℃,密度4.80g/cm3(14℃),莫氏硬度1.0~1.5。1370℃開始分解,1600℃分解為金屬鉬和硫。315℃在空氣中加熱時開始被氧化,溫度升高,氧化反應加快。二硫化鉬不溶于水、稀酸和濃硫酸,一般不溶於其他酸、堿、有機溶劑中,但溶于王水和煮沸的濃硫酸。400℃緩慢發生氧化,生成三氧化鉬。被譽為“高級固體潤滑油王”。更多資訊,請訪問:二硫化鉬。
可以用鈦鐵試劑來檢驗生成的三氧化鉬。首先將產物用氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液處理(原理是將三氧化鉬轉化為鉬酸鹽),然後滴加鈦鐵試劑溶液,會和生成的鉬酸鈉或鉬酸鉀反應,產生金黃色溶液。這種方法很靈敏,微量的鉬酸鹽都能被檢測出來。而如果沒有三氧化鉬生成,溶液就不會產生金黃色,因為二硫化鉬不和氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液反應。
二硫化鉬加熱可以和氯氣反應,生成五氯化鉬:2 MoS2+ 7 Cl2→ 2 MoCl5+ 2 S2Cl2。二硫化鉬和烷基鋰在控制下反應,形成嵌入化合物(夾層化合物)LixMoS2。如果和丁基鋰反應,那麼產物為LiMoS2。二硫化鉬具有高含量活性硫,容易對銅造成腐蝕,在很多關於潤滑劑添加劑方面的書籍、論文中都有論述。另外,有銅及其合金製造的部位需要潤滑時,並非不可以選用含二硫化鉬潤滑產品,而是還需要添加防銅腐蝕劑。更多資訊,請訪問:什麼是二硫化鉬。
納米二硫化鉬製備方法之二
- 週一, 16 十二月 2013 08:44
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二烷基二硫代氨基甲酸鉬分解法是納米二硫化鉬製備方法之一。二烷基二硫代氨基甲酸鉬簡稱MoDTC,其化學結構如下:NRRCSSMoOSSC—NRR式中R為二乙基已基等烷基式芳基二乙基己基二硫代氨基甲酸鉬是潤滑劑的摩擦改進劑、抗磨劑、極壓劑、防積炭劑和抗氧化劑。其所以顯示這些性能與其在摩擦作業時,由於溫度上升而分解為納米二硫化鉬與二乙基己基氨基甲酸鹽有關。為此科研人員將已製成的這類有機鉬在180~250℃下熱分解來製備納米二硫化鉬,這種方法產出的二硫化鉬表面含少量的有機物熱解產物。更多資訊,請訪問:二硫化鉬。
除上述方法外,還有通過分解四硫代鉬酸銨來生產二硫化鉬。具體過程如下:
生產納米二硫化鉬也以四硫代鉬酸銨為前體,經乾燥與熱解,這一點與生產微米級二硫化鉬相似。為了得到納米級、高分散態二硫化鉬在四硫代鉬酸銨熱解要加分散劑,選擇優異的分散劑是生產納米二硫化鉬研究的課題。
熱解四硫代鉬酸銨方法之一在存在分散劑—
十六烷基三甲基氯化銨表面劑和還原劑水合肼下,在煆燒溫度500~600℃之間熱解四硫代鉬酸銨,產出幾十納米的二硫化鉬,這種方法製備的納米二硫化鉬在儲存時或使用時很少團聚,這是因為在熱解四硫代鉬酸銨時,有機物熱分解時殘留於二硫化鉬中的極少量碳可使二硫化鉬晶體再結晶過程受阻。
熱解四硫代鉬酸銨方法之二
將四硫使用期鉬酸銨與少量水混合在存在十三烷下、在6 9MPa氫壓下熱解四硫代鉬酸銨。這種方法熱解的四硫代鉬酸銨,在350℃下產出比表面為335m2/g的二硫化鉬、孔容為0 625cm3/g。在375℃下熱解得到的二硫化鉬比表面為345m2/g、孔容為0 65m3/g。而微米級二硫化鉬的比表面僅為3~10m3/g,孔容為0 056m3/g。如果單一熱解四硫代鉬酸銨(無水),產出的二硫化鉬比表面為70m2/g。比熱解四硫代鉬酸銨與水混合物產出的二硫化鉬比表面小近5倍。孔容也低得多。這種大比表面、含大量小孔洞和大量中等孔洞的納米二硫化鉬呈高分散態,不團聚,對有機物C-C鍵裂解和氫解顯示極高的活性。
熱解四硫代鉬酸銨方法之三
在低於350℃下聲解四硫代鉬酸銨產出2 5nm的二硫化鉬。Morermo.Beatriz等詳盡地研究了聲熱的條件與產出超細納米二硫化鉬粒度的關係。更多資訊,請訪問:什麼是二硫化鉬。
納米二硫化鉬加氫脫硫的催化活性高於微米二硫化鉬主要歸因於納米二硫化鉬與微米二硫化鉬的結晶構造與形貌不同有關。研究揭示,納米二硫化鉬在石油精製領域加氫脫硫、加氫脫氮領域、各類化學工業、合成化學工業、煤液化工業、高壓合成金剛石等領域將有廣泛的應用前景。納米二硫化鉬由於粒子尺寸小,比表面大,填平能力強,也可用於作潤滑劑、潤滑脂的減摩劑、抗磨劑和極壓劑。更多資訊,請訪問:二硫化鉬。
許多研究人員作了典型的1-甲基萘催化氫化為1-甲基四氫化萘和5-甲基氫化萘試驗。結果表明,在350℃下,使用等量的微米(約2 6μm)二硫化鉬和40nm二硫化鉬催化劑下,納米二硫化鉬的氫化轉化速率為微米二硫化鉬的5倍。且氫化產物中1-甲基四氫化萘與5-甲基四氫化萘的比例幾乎恒定。對萘甲基聯苄的催化加氫試驗表明,納米二硫化鉬對C-C鍵裂解、芳環氫化的活性比微米二硫化鉬高得多。對二苯噻吩加氫脫硫試驗表明納米二硫化鉬較微米二硫化鉬活性高、選擇性好。
有人曾試驗將納米二硫化鉬與二烷基二硫代磷酸合用來發送其摩擦學性能,取得一定成果。用化學氣相法或物理沉積法,如將五氯化鉬與硫化氫反應或五氯化鉬與硫反應將納米二硫化鉬沉積在切削工具、深拉機械部件、鑽孔頭上,特別是將二硫化鉬沉積在這些部件的堅硬TiN塗層上可提高切具、鑽具、拉具的機加效率,這種CVD塗層應用前景十分廣闊。更多資訊,請訪問:什麼是二硫化鉬。
納米二硫化鉬製備方法之三
- 週一, 16 十二月 2013 08:44
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機械研磨法是利用振動磨(VBM)和介質攪拌磨(MAM)製備納米二硫化鉬。振動磨磨機容積為80mL,磨機中裝5g微米級二硫化鉬,以癸烷、油酸作分散劑、以3mm氧化鋯球作磨礦介質。振動磨的振動頻率為1500Hz、振幅4mm、研磨10~50h制取納米二硫化鉬。介質攪拌磨容積100mL、內裝1mm氧化鋯球,磨內裝5g微米二硫化鉬,以癸烷、油酸為分散劑,轉數3000r/min,研磨10~50h。研磨好的上述兩種磨機產品篩出鋯球、過濾出癸烷與油酸在150℃真空下緩慢烘乾15h即可。更多資訊,請訪問:二硫化鉬。
除上述方法外,還有通過分解四硫代鉬酸銨和二烷基二硫代氨基甲酸鉬熱分解法來生產二硫化鉬。具體過程如下:
四硫代鉬酸銨分解法
生產納米二硫化鉬也以四硫代鉬酸銨為前體,經乾燥與熱解,這一點與生產微米級二硫化鉬相似。為了得到納米級、高分散態二硫化鉬在四硫代鉬酸銨熱解要加分散劑,選擇優異的分散劑是生產納米二硫化鉬研究的課題。
熱解四硫代鉬酸銨方法之一在存在分散劑—
十六烷基三甲基氯化銨表面劑和還原劑水合肼下,在煆燒溫度500~600℃之間熱解四硫代鉬酸銨,產出幾十納米的二硫化鉬,這種方法製備的納米二硫化鉬在儲存時或使用時很少團聚,這是因為在熱解四硫代鉬酸銨時,有機物熱分解時殘留於二硫化鉬中的極少量碳可使二硫化鉬晶體再結晶過程受阻。
熱解四硫代鉬酸銨方法之二
將四硫使用期鉬酸銨與少量水混合在存在十三烷下、在6 9MPa氫壓下熱解四硫代鉬酸銨。這種方法熱解的四硫代鉬酸銨,在350℃下產出比表面為335m2/g的二硫化鉬、孔容為0 625cm3/g。在375℃下熱解得到的二硫化鉬比表面為345m2/g、孔容為0 65m3/g。而微米級二硫化鉬的比表面僅為3~10m3/g,孔容為0 056m3/g。如果單一熱解四硫代鉬酸銨(無水),產出的二硫化鉬比表面為70m2/g。比熱解四硫代鉬酸銨與水混合物產出的二硫化鉬比表面小近5倍。孔容也低得多。這種大比表面、含大量小孔洞和大量中等孔洞的納米二硫化鉬呈高分散態,不團聚,對有機物C-C鍵裂解和氫解顯示極高的活性。
熱解四硫代鉬酸銨方法之三
在低於350℃下聲解四硫代鉬酸銨產出2 5nm的二硫化鉬。Morermo.Beatriz等詳盡地研究了聲熱的條件與產出超細納米二硫化鉬粒度的關係。
二烷基二硫代氨基甲酸鉬熱分解法
二烷基二硫代氨基甲酸鉬簡稱MoDTC,其化學結構如下:NRRCSSMoOSSC—NRR式中R為二乙基已基等烷基式芳基二乙基己基二硫代氨基甲酸鉬是潤滑劑的摩擦改進劑、抗磨劑、極壓劑、防積炭劑和抗氧化劑。其所以顯示這些性能與其在摩擦作業時,由於溫度上升而分解為納米二硫化鉬與二乙基己基氨基甲酸鹽有關。為此科研人員將已製成的這類有機鉬在180~250℃下熱分解來製備納米二硫化鉬,這種方法產出的二硫化鉬表面含少量的有機物熱解產物。更多資訊,請訪問:什麼是二硫化鉬。