由於鉬是難熔金屬，因此，鉬靶材，鉬濺射靶材製備方法主要以粉末冶金方法為主，此外，還有高溫熔煉法。粉末冶金法製備鉬濺射靶材時，其關鍵在於：(1)選擇高純鉬粉作為原料；(2)選擇能實現快速緻密化的成形燒結技術，以保證靶材的低孔隙率，並控制晶粒度；(3)製備過程嚴格控制雜質元素的引入。其中鉬粉原料的純度是保證最終鉬濺射靶材純度的最主要因素，其純度至少需要99.95%以上。更多資訊，請訪問：鉬濺射靶材。

另外一種製備鉬濺射靶材的方法是採用高溫熔煉法，先將鉬板坯或者棒坯經電子束或者電弧熔煉爐中進行高溫熔煉後形成熔煉鉬坯錠，然後通過鍛造、擠壓或者拉拔的成型工藝進行成型加工，最後經熱處理、機加工及背板結合形成鉬濺射靶材。相比粉末冶金方法，這種方法製備的鉬濺射靶材純度高、緻密性好，但對設備要求高，工藝複雜，靶材的晶粒也相對粗大。更多資訊，請訪問：鉬濺射靶材。