如何提高鉬濺射靶材的利用率呢？改善濺射設備和改平面鉬濺射靶材為管狀旋轉鉬濺射靶材是目前提高鉬濺射靶材利用率的主要手段。在平面磁控濺射過程中，由於正交電磁場對濺射離子的作用關係，鉬濺射靶材在濺射過程中將產生不均勻沖蝕(E rosion)現象，從而造成濺射靶材的利用率普遍不高，約30%左右。近年來雖然通過設備改善後可相應提高靶材的利用率，但也只有50%左右。因此，提高靶材利用率的關鍵在於實現濺射設備的更新換代。更多資訊，請訪問：鉬濺射靶材。

另外，靶材原子被氫離子撞擊出來後，約有1/6的濺射原子會澱積到真空室內壁或支架上，增加清潔真空設備的費用及停機時間。

另外一種提高鉬濺射靶材利用率的方法是改平面靶材為管狀旋轉靶材。相比平面靶材，採用旋轉靶結構的設計顯示出它的實質性優勢。靶的壽命定義為濺射功率乘濺射時間(kW.h)，或者是能在基板上澱積材料的總厚度。從平面靶到旋轉靶在幾何結構和設計上的變化增加了靶材的利用率，利用率從平面靶的30% ~ 50% 可增加到旋轉靶的> 80% 。此外，如果以kW .h來衡量靶材料的壽命,則旋轉靶的壽命要比平面靶長5倍。由於旋轉靶在濺射過程中不停地旋轉，所以在它的表面不會產生重沉積現象。更多資訊，請訪問：鉬濺射靶材。