二矽化鉬化學性質如下：在氧化氣氛中，可在高溫燃燒緻密的石英玻璃（SiO2）的表面上形成保護膜層，以防止二矽化鉬連續氧化；當加熱元件的溫度是高於1700℃，形成SiO2保護膜，在熔點為1710℃下稠合和SiO2融合成熔融滴，但由於其表面延伸的動作，因此失去其保護能力；在氧化劑作用下，當元素被連續地使用，再次形成保護膜的形式。應當提示的是由於在低溫度的強氧化作用，該元素不能長時間被用於400~700℃溫度環境下。更多資訊，請訪問：二矽化鉬。

二矽化鉬其他特性：

(1)足夠高的熔點(Tm，2030℃)，若按0.8Tm估算工作溫度，其值在1600℃以上；

(2)適中的比重(6.24g/cm3)，低於目前航空用Ni基合金的比重(8.44g/cm3)；

(3)極好的高溫抗氧化性，抗氧化溫度可達1700℃左右，是金屬矽化物中最好的，與矽基陶瓷相當。

(4)具有脆性2韌性轉變，其轉變溫度(BDTT)一般在900～1000℃左右。這種特性不但使得有可能預報MoSi2在高溫下的斷裂失效，而且使其可以用傳統工藝進行熱加工。另一方面，MoSi2在BDTT以下具有脆性，室溫斷裂韌性較低，在BDTT以上具有塑性，但高溫強度低。

(5)具有R’特性，即在一定溫度範圍內，隨著溫度的升高其強度基本保持不變，這是MoSi2可作為高溫結構材料使用的主要理由之一。

另外，MoSi2具有較低的熱脹係數(8.1×10-6K-1)以及良好的電熱傳導性，可進行放電加工。同時，MoSi2資源豐富，既無環境污染，又可再生製備。更多資訊，請訪問：二矽化鉬。