如何製備富勒烯二硫化鉬納米管呢？1997年Chhowalla.M等人製成富勒烯碳納米管，隨後不久，他用類似的方法製成富勒烯二硫化鉬納米管或稱富勒烯二硫化鉬納米薄層。向直徑1mm的空心二硫化鉬靶引入高壓氮氣流，用弧光放電溶削固體二硫化鉬靶，高壓氣流使空心二硫化鉬膨脹，從而瞬間便在陰極基材表面形成富勒烯納米二硫化鉬薄膜，基材距二硫化鉬靶20cm，氮壓保持在1330Pa，沉積二硫化鉬薄膜的溫度為200℃、弧光電壓22V、電流為75A。更多資訊，請訪問：二硫化鉬。

富勒烯二硫化鉬納米管製備方法之二Y.Feldman等採用高速氣相合成法製備富勒烯二硫化鉬納米管。試驗是在管式石英爐中進行的。在管式爐中，在800～950℃溫度下通過還原氫氣與惰性氮氣再通入氧化鉬與硫化氫氣體，使三氧化鉬與硫化氫反應，經過氣相合成在基材表面上生成富勒烯二硫化鉬納米管塗膜。

氣相合成反應的動力學如下：

MoO3+xH2→MoO3-x↑+xH2O↑ (1)

MoO3-x+(1-x)H2+2H2S→MoS2↑+(3-x)H2O↑ (2)

MoO3+H2→Mo+3H2O↑ (3)

MoO3-x+(1-x)H2+XH2S→Mo2-x↑+(1-x)H2↑+xH2S↑→MoO2-x-Sx↓+H2O↑(4)

當溫度低至650℃時，三氧化鉬與氫反應可生成亞化學計量的MoO3-x(反應1)。如果爐中還原氣氛過強，蒸氣壓很低，三氧化鉬可被氫還原為鉬金屬(反應3)。與此相反，當爐中還原氣不足，可以生硫氧化鉬(反應4)。精心地控制還原氣氛，採用5%H2+95%N2，混合氣，在840℃下即可製成約30nm的富勒烯二硫化鉬納米管。在820℃下製成的富勒烯二硫化鉬納米管平均直徑為20nm。900℃下製成的富勒烯二硫化鉬納米管平均直徑為100nm。更多資訊，請訪問：什麼是二硫化鉬。