活化还原法是超细钼粉制备方法之一。与传统方法相比，该方法的还原温度降低约200～300℃，而且只使用一次还原过程(即属于一次还原法)，工艺较简单；此方法制备的钼粉，其BET平均粒度为0.1μm，且粉末具有良好的烧结性能。该方法以仲钼酸铵(APM)为原料，加入氯化铵，加热分解后再加入HCl，反应生成MoO2Cl2，最后通入氢气，还原生成超细钼粉。在生产过程中NH4Cl起到催化剂的作用，在还原过程中，NH4Cl完全挥发。更多信息，请访问：钼粉。

上述生产过程具体步骤如下：
以仲钼酸铵(APM)为原料，其还原过程机理如下：

氯化铵加热时很容易分解：NH4Cl=HCl+NH3。同时APM分解成氧化钼，如MoO3：3(NH4)O・MoO3・4H2O=6NH3+7MoO3+7H2OMoO3即刻和HCl反应：7MoO3+14HCl=7MoO2Cl2+7H2O然后，MoO2Cl2被氢气还原为超细钼粉：7MoO2Cl2+21H2=7Mo+14H2O+14HCl

由以上可知，NH4Cl起到催化剂的作用，在还原过程中，NH4Cl完全挥发。因而，我们整理可得到总反应式：NH4Cl+3(NH4)O・7MoO4・4H2O+21H2=HCl+7NH3+28H2O+7Mo。更多信息，请访问：钼及钼粉喷涂。