钼靶材，钼溅射靶材特点如下：高熔点，极低的蒸气压，高温物理强度大，抗蠕变，高的弹性模量，极低的热胀系数，优良的导电率，优良的导热性，选择性的抗侵蚀能力等。在电子行业中，钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。此外，钼使用在LCD的元器件中，可使液晶显示器在亮度、对比度、色彩以及寿命方面的性能大大提升。更多信息，请访问：钼溅射靶材。

溅射作为一种先进的薄膜材料制备技术，具有高速及低温两大特点。它利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米(或微米)薄膜。而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。钼溅射靶材可在各类基材上形成薄膜，这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品，如目前广泛应用的TFT - LCD ( Thin Film Transitor- Liqu id C rysta l Displays，薄膜半导体管-液晶显示器)、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。更多信息，请访问：钼溅射靶材。