什么是钼合金溅射靶材（钼合金靶材）？在钼靶材中加入钨、钒、铌、钽等合金元素，即为钼合金溅射靶材，钼合金靶材。其是利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米(或微米)薄膜。更多信息，请访问：钼溅射靶材。

随着电子行业综合性能和使用环境要求的提高，钼合金靶材也表现出了其独特的性能。由于钼在耐腐蚀性(变色)和密着性(膜的剥离)方面存在问题。因此，在钼靶材中加入钨、钒、铌、钽等合金元素，可使溅射后溅射薄膜的比阻抗、应力、耐腐蚀性等各种性能达到均衡。更多信息，请访问：钼溅射靶材。