什么是二氧化钼溅射膜？首先将含MoO290%～99.5%的二氧化钼粉在7～28MPa等静压压制成极板，于真空炉中，在1250℃下烧结6h形成二氧化钼靶坯，而后用磁控溅射或脉冲激光溅射或离子束溅射，将二氧化钼溅射在基材上，基材可以是塑制材料、破璃基材、陶瓷基材和混合材料。其塑料基材为聚降冰片烯，陶瓷基材为蓝宝石(Al2O3)。二氧化钼沉积在基材上形成二氧化钼薄膜。更多信息，请访问：氧化钼。

用以上方法得到的二氧化钼溅射膜的厚度为0.5～10μm，而后测定了二氧化钼的功函(Workfunction)，一般要求铟-氧化锡(ITO)等发光二极管材料的功函典型的数值为4.7eV。经测定上述二氧化钼溅射膜的功函为4.7～6eV，高于铟-氧化锡膜。此外二氧化钼膜表面的糙度比铟-氧化锡低，其糙度小于5nm。在波长为350～800nm下，二氧化钼膜的透射率大于85%。电阻率小于300μΩ・cm。

研究结果显示，二氧化钼膜具有优异的电性、光性和物理表面光洁等特性，可广泛用于发光二极管(OLED)、液晶显示装置(LCD)等、离子显示板(PDP)、场射显示板(FED)、薄膜太阳能电池、低电阻欧姆触点材料和其它电子材料和半导体材料。应该说对二氧化钼膜的研究目前处于起步阶段，研究将日趋广泛和深入。

总之，随着科学技术的发展，科学工作者对传统氧化钼产品的生产作了重大的改进，提高了产品质量和钼回收率。对新型氧化钼，如纳米三氧化钼、二氧化钼膜的性能有新的发现和新的应用，有理由相信未来对各种氧化钼产品将进行更加深入的研讨，一定能有更加喜人的进步。
上述纳米三氧化钼带的放电特性适于作大画面萤光显示装置材料。更多信息，请访问：氧化钼。