二矽化鉬在氧化氣氛下加熱到高溫，表面生成一層緻密的石英玻璃膜，它可保持製品不再氧化。因此二矽化鉬產品具有獨特的高溫抗氧化性。在氧化氣氛下最高使用溫席為1800℃，其適用溫度為500~1700℃，可以用作陶瓷、磁性材料、玻璃、冶金、耐火材料等工業高溫爐的加熱元件。主要產品及用途如下：二矽化鉬管：用作玻璃池窯的鼓泡管；二矽鉬封口管：用作熱電偶保護管，用於氧化，還原或腐蝕性氣氛中或溫度波動大的環境中；二矽鉬探針：用於玻璃窯液面控制，可代替鉑絲；二矽化鉬電極：用於電熔玻璃，不需水冷。更多資訊，請訪問：二矽化鉬。

因為MoSi2產品的低溫抗氧化性較差，因此它的使用壽命比較短，以下是改善MoSi2低溫抗氧化性的方法：
1.提高MoSi2及其複合材料的純度和密度，以減少材料內部的孔隙、裂紋和夾雜等缺陷，從而減少氧進入材料內部的幾率;只要材料的相對密度達到95%以上，基本上就可以避免“粉化瘟疫”現象；
2.在原材料表面通過高溫預氧化生成一層緻密的SiO2保護膜，阻止低溫時氧通過表面的滲入。MoSi2發熱元件就是在元件表面預先生成一層緻密的保護膜來提高元件使用壽命的，儘管在低溫使用時會有所損壞，但是只要每隔2～3天升溫到1400℃左右加熱10～15min，就可以重新在元件表面生成一層緻密的保護膜繼續使用。Meschter證明在1200℃進行預氧化可以在MoSi2表面生成一層緻密的保護膜，阻止500℃的加速氧化，所以，他認為可疑的MoSi2低溫氧化現象不會妨礙MoSi2及其複合材料在高溫領域的應用。但是，預氧化生成的SiO2保護膜和基體存在熱膨脹係數不匹配的問題，對保護膜的CET進行調整是必要的；
3.通過添加與氧親和力較大的元素使之優先氧化，不僅可以排除SiO2夾雜，而且可以生成細小的增強相顆粒，均勻的分佈在基體中，提高材料的強韌性，阻止低溫氧化的發生，其中Al就是一種很好的添加元素，具有明顯降低“粉化瘟疫”現象的作用；
4.通過複合化來改善材料的抗氧化性能，TiB2、Al2O3等第二相陶瓷一般不參與低溫氧化反
應，所以會消除低溫“粉化瘟疫”現象，但是可能存在加速氧化的趨勢。更多資訊，請訪問：矽鉬棒。