什麼是鉬濺射靶材，鉬靶材呢？濺射作為一種先進的薄膜材料製備技術，具有高速及低溫兩大特點。其利用離子源產生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流，轟擊固體表面，離子和固體表面的原子發生動能交換，使固體表面的原子離開靶材並沉積在基材表面，從而形成納米(或微米)薄膜，而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為鉬濺射靶材，鉬靶材。更多資訊，請訪問：鉬濺射靶材。

鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜，這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品，如目前廣泛應用的TFT - LCD ( Thin Film Transitor- Liqu id C rysta l Displays，薄膜半導體管-液晶顯示器)、等離子顯示幕、無機光發射二極體顯示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池、感測器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMOS(互補金屬氧化物半導體)的場效應電晶體柵極等 。更多資訊，請訪問：鉬濺射靶材。