二矽化鉬可用作塗層材料。塗層（coating）是塗料一次施塗所得到的固態連續膜，是為了防護，絕緣，裝飾等目的，塗布於金屬，織物，塑膠等基體上的塑膠薄層。塗料可以為氣態、液態、固態，通常根據需要噴塗的基質決定塗料的種類和狀態。二矽化鉬可以用作塗層材料，二矽化鉬塗層可分為兩種，其一是用於難熔金屬及其合金和石墨以及C-C複合材料的高溫抗氧化塗層；其二是用於大型積體電路的柵極薄膜塗層，一般壽命不高。更多資訊，請訪問：二矽化鉬。

二矽化鉬塗層發展史：
1967年蘇聯化學物理研究所А.Г.馬爾茲漢等發明了自蔓延(SHS)冶金技術。1976年蘇聯聯合30多家不同組織機構參與了SHS工藝方法的研究和開發，研製合成出200多種材料，其中至少2種以上投入生產，如二矽化鉬和碳化鈦，後者用作工業金剛石的代用品；前者作為加熱元件。目前世界上瑞典“康達爾”公司生產的加熱元件品質更好，但價格較昂貴。

最近幾年來，美國、日本和波蘭等國對SHS方法亦產生了濃厚的興趣。國內天津化工所研究二矽化鉬最早。相繼在洛陽、上海生產矽化鉬加熱元件，但產品品質與國外有一定距離。由於二矽化鉬製品最大缺點——脆性，同時國內生產的鉬製品不緻密、表面不光滑和缺陷較多。

近年來，大量文獻報導了等離子噴塗或反應性等離子噴塗MoSi2基複合材料及其塗層。一致認為，低壓噴塗所得塗層最緻密、含氧量低、化學成分均勻。一般積體電路在製造過程中要進行1000℃以上的高溫處理，在比電阻比多晶矽小的矽化物中，MoSi2和WSi2等難熔矽化物就能經受如此高的溫度。因此，MoSi2也是製作積體電路柵極的理想材料之一。Brestchneider等人引用離子濺射法製備出的MoSi2薄膜塗層，可以滿足大型積體電路的各種要求。在高溫(>1200℃)下，MoSi2表面被氧化形成緻密的SiO2薄膜。由於SiO2粘性較小，容易流進裂紋中去，從而起到修補裂紋或裂紋自癒合的作用。但傳統的包埋法MoSi2。更多資訊，請訪問：二矽化鉬。